,但相关设备高度依赖进口
至于14纳米一下,国内目前无法制造
现在,世界上最先进的芯片制程工艺是3纳米
14纳米、7纳米、5纳米,再到3纳米,比起国内,整整先进了四代
而他们这些人,以及相关的高校、机构直接跳过了前面的三代,直接研究3纳米芯片制程工艺
相关的设备如刻蚀机、薄膜沉寂设备等等都已解决,就剩下最为核心的光刻机了
而光刻机中的三大难题,EUV光源、双工件台和光学镜头,其中双工件台的难题已经解决
EUV光源的问题,清大研制的同步辐射光源虽说极其耗能,但能用
最后就是光学镜头了
就他知道的专业研究光学镜头的团队就超过了五个,再加上一些不知名的,参入EUV光学镜头研究的团队很多
相对来说,上岭大学光学镜头研究中心走在了最前列,一旦突破离子束抛光技术,EUV光刻机光学镜头的难题将得到解决
那时EUV光刻机的制造不再是难题,这也意味着他们实现了弯道追赶,掌握自主可控的3纳米芯片制程工艺
他觉得,突破离子束抛光技术的时间快了,那怕苏哲那没有进展,靠他们自己,再来两轮差不多就成功了